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民營電廠之系統衝擊評估與探討--規劃準則、分析方法與相...
描述:來源期刊:電機月刊、卷期:12:8=140 民91.08、頁次:頁272-300...
主題與關鍵字:民營電廠 電力系統 穩定度
資料識別:A02020111
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高速鐵路供電實務(42)--高鐵車站受配電設備規劃
描述:來源期刊:電機月刊、卷期:12:8=140 民91.08、頁次:頁304-313...
主題與關鍵字:高速鐵路 車站 受配電設備
資料識別:A02020112
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300mm晶圓載卸模組之氣流及污染粒子特性研究
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁99-110
主題與關鍵字:300mm晶圓傳送盒 晶圓載入機 微環境 正壓控制 Front ope...
資料識別:A02020113
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晶圓傳送盒閂鎖機構之美國專利分析
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁111-119
主題與關鍵字:晶圓傳送盒 閂鎖機構 專利分析 Wafer transport containe...
資料識別:A02020114
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晶圓電鍍技術及應用簡介
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁120-127
主題與關鍵字:電化學沉積法 晶圓凸塊製程 金屬化製程 Electrochemical ...
資料識別:A02020115
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電漿技術於Ⅲ-Ⅴ製程設備的應用--薄膜沉積篇
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁128-133
主題與關鍵字:三-五族 電獎加速化學氣沉積 沉積設備 電漿 - PECVD D...
資料識別:A02020116
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電漿技術於Ⅲ-Ⅴ製程設備的應用--蝕刻技術篇
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁134-139
主題與關鍵字:電漿 電漿蝕刻 三-五族 蝕刻 Plasma Plasma etching -...
資料識別:A02020117
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低溫液相沉積含氟二元氧化矽技術
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁140-147
主題與關鍵字:液相沈積 二氧化矽 六氟矽酸 Liquid phase deposition S...
資料識別:A02020118
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300mm半導體設備軟體標準介紹
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁148-153
主題與關鍵字:流程工作物件 控制工作物件 300mm Process job Control ...
資料識別:A02020119
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多變量分析在半導體製程故障偵測之應用
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁154-159
主題與關鍵字:多變量分析 幅狀基底函數類神經網路 主成份分析 Multivar...
資料識別:A02020120
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使用貝氏網路於離子植入機之錯誤診斷系統
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁160-168
主題與關鍵字:離子植入機 貝氏理論 貝氏網路方法 錯誤診斷 Ion-implan...
資料識別:A02020121
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半導體Overlay量測機臺之參數收集與分析系統
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁169-177
主題與關鍵字:黃光製程 疊對 線與空間的寬度 光罩 資料收集派送分析系...
資料識別:A02020122
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薄型硬脆半導體材料劃線裂片設備簡介
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁178-189
主題與關鍵字:劃線裂片 砷化鎵 切割晶圓 斷裂 Scribe/break GaAs Ga...
資料識別:A02020123
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次微米級精密取放設備探討
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁190-200
主題與關鍵字:次微米 精密定位 取放設備 Sub-micron Precision positi...
資料識別:A02020124
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薄型晶片取放機制研究
描述:來源期刊:機械工業、卷期:234 民91.09、頁次:頁201-212
主題與關鍵字:薄晶片 3D堆疊封裝 智慧卡 無應力 取晶 Thin chip 3D ...
資料識別:A02020125
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