低溫液相沉積含氟二元氧化矽技術

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資料識別:
A02020118
資料類型:
期刊論文
著作者:
江世明 梁沐旺
主題與關鍵字:
液相沈積 二氧化矽 六氟矽酸 Liquid phase deposition Silicon dioxide Hydrofluosilicic acid
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:234 民91.09
頁次:頁140-147
日期:
20020900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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