電漿技術於Ⅲ-Ⅴ製程設備的應用--薄膜沉積篇
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- 資料識別：
- A02020116
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張加強
- 主題與關鍵字：
- 三-五族 電獎加速化學氣沉積 沉積設備 電漿 Ⅲ-Ⅴ PECVD Deposition equipment Plasma
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:234 民91.09
- 頁次:頁128-133
- 日期：
- 20020900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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