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電漿技術於Ⅲ-Ⅴ製程設備的應用--蝕刻技術篇
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後設資料
資料識別:
A02020117
資料類型:
期刊論文
著作者:
劉品均
主題與關鍵字:
電漿 電漿蝕刻 三-五族 蝕刻 Plasma Plasma etching Ⅲ-Ⅴ Etch
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:234 民91.09
頁次:頁134-139
日期:
20020900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
劉品均(20020900)。[電漿技術於Ⅲ-Ⅴ製程設備的應用--蝕刻技術篇]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/96/53.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/96/53.html
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