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電混凝結合高級氧化程序在CMP製...
電混凝 氧化 廢水處理 化學機械研磨 CMP 國家圖書館 20041200 期刊論文 湯鴻祥 詹舒斐 金光祖 電混凝結合高級氧化程序在CMP製程廢水處理的應用 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:節約用.....more
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銅在化學-機械拋光電解液中之電...
(CMP) 國家圖書館 20030600 期刊論文 林秀如(Lin， Shiou-ru) 陳瑞琴(Chen， Jui-chin) 蔡文達(Tsai， Wen-ta) 銅在化學-機械拋光電解液中之.....more
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淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰
淺溝渠隔離技術 固定式砥粒研磨 化學機械研磨 高選擇比研漿 Shallow trench isolation Fixed abrasive polishing Direct CMP High.....more
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化學機械研磨製程之有限元素建模
化學機械研磨製程 晶圓 有限元素模式 CMP Wafer Finite element model 國家圖書館 20030600 期刊論文 林有鎰(Lin， Yeou-yih) 羅仕鵬(Lo.....more
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矽晶圓拋光平坦化加工技術
矽晶圓平坦化 化學機械拋光 機械化學拋光 拋光墊 半導體製程 CMP MCP 國家圖書館 20030700 期刊論文 許厲生 徐振貴 陳炤彰 矽晶圓拋光平坦化加工技術 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊.....more
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晶圓化學機械研磨之研磨液特性量...
化學機械研磨 研磨液 半導體製程 CMP 國家圖書館 20030700 期刊論文 林育廷 杜順旭 鄭聖弘 晶圓化學機械研磨之研磨液特性量測分析與監控 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械月刊 卷期.....more
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銅被覆晶圓之化學機械拋光理論與...
銅被覆晶圓 化學機械拋光 IC製程 CMP 國家圖書館 20030700 期刊論文 蔡志成 劉大中 蔡明蒔 銅被覆晶圓之化學機械拋光理論與實驗探討 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械月刊 卷期.....more
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化學機械研磨系統之鑽石修整器研...
化學機械研磨 鑽石修整器 研磨墊 CMP 國家圖書館 20030700 期刊論文 廖運炫 楊琦婷 洪珮文 趙弘文 化學機械研磨系統之鑽石修整器研究 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械月刊 卷期.....more
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臺灣半導體製程設備市場現況與廠...
化學氣相沈積 原子層沈積 化學機械研磨 CVD ALD CMP 國家圖書館 20030700 期刊論文 哈建宇 臺灣半導體製程設備市場現況與廠商未來切入機會分析 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械.....more
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臺灣半導體製程設備市場現況與廠...
化學氣相沈積 原子層沈積 化學機械研磨 CVD ALD CMP 國家圖書館 20031200 期刊論文 哈建宇 臺灣半導體製程設備市場現況與廠商未來切入機會分析 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械.....more
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Sol-gel Synthesis and Characte...
Synthesis and Characterization of Y戓Zr[fec5] O□ Nanopowders for CMP Application 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:材料科學與工程 卷期.....more
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應用於3D-TSV製程技術之CMP設備...
矽導通孔 化學機械研磨 微機電系統 Through silicon via TSV Chemical mechanical polish CMP Micro electro mechanical.....more
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類鑽薄膜對鑽石修整器表面磨耗腐...
磨耗 腐蝕 化學機械拋光 鑽石修整器 Wear Corrosion CMP Diamond conditioner 國家圖書館 20060900 期刊論文 譚安宏 鄭穎駿 李正國 類鑽薄膜對鑽石修整.....more
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多晶鑽石刨平器：拋光墊的精密修...
多晶鑽石刀具 化學機械拋光 延性切削 修整器 PCD planer CMP Ductile cutting Pad conditioner 國家圖書館 20060500 期刊論文 宋健民 多晶鑽石刨.....more
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具高低研磨面晶圓之化學機械研磨...
化學機械研磨 具高低研磨面晶圓 研磨時間 CMP Patterned wafer Polishing time 國家圖書館 19991000 期刊論文 張美雲(Chang， Mei-yun) 陳柏廷.....more
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