搜尋:CMP

符合的藏品

卷名:中央電工器材廠函件Central Electrical Manufacturing Works C-1(003-020700-0112)

卷名:中央電工器材廠函件Central...

造函請國外貿易事務所紐約分所知照經函復如再為搜尋後仍無所獲可否不經申請CMP銅料配給而逕製造運交該物,陳良輔為獲銅料配給函送CMP-4-A申請書予美國對外經濟事務局,國外貿易事務所紐約分所材料處事務員.....more

1/71

層間膜/STI的SiO[feaf]-CMP後之...

洗淨 層間絕緣膜CMP SiO[feaf]-CMP STI-CMP 國家圖書館 19990700 期刊論文 層間膜/STI的SiO[feaf]-CMP後之洗淨技術 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:電.....more

2/71

UPW之UF膜再利用於CMP/BG廢水回...

混凝沉澱 CMP BG UF 國家圖書館 20080400 期刊論文 郭靜宜 李清屏 王冬信 UPW之UF膜再利用於CMP/BG廢水回收之測試研究 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:化工技術 卷期.....more

3/71

鑽石碟修整器:化學機械平坦化(C...

鑽石碟修整器 化學機械平坦化 CMP 國家圖書館 20010800 期刊論文 宋建民 鑽石碟修整器:化學機械平坦化(CMP)的催生者 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:粉末冶金會刊 卷期:26:3 民.....more

4/71

Development of CMP Knowledge-B...

Agent Ontology knowledge TRIZ CMP 本體論 多代理人系統 國家圖書館 20081000 期刊論文 林榮慶(Lin, Zone-ching) 陳健忠(Chen.....more

5/71

大理石材之化學機械研磨(CMP)性...

化學機械研磨 大理石 紅外光譜 矽酸鈉 草酸 Chemomechanical polishing CMP Marble Planarization Infrared spectroscope.....more

6/71

A Preliminary Study on Water R...

CMP廢水 電解過濾 掃流過濾 電透析 電解水 廢水回收 CMP wastewater Crossflow filtration Electrofiltration Electrodialysis.....more

7/71

化學機械研磨機

化學機械研磨 Chemical mechanical polishing CMP 國家圖書館 19980900 期刊論文 蔡明蒔 化學機械研磨機 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:電子月刊 卷期:4.....more

8/71

Chemical-Mechanical Polishing ...

CMP HSQ Slurry Surface modification 國家圖書館 19990700 期刊論文 Chen,Wen-chang Yen,Cheng-tyng Chemical.....more

9/71

藉併購取得關鍵技術,Novellus首...

國家圖書館 期刊論文 李書齊 藉併購取得關鍵技術,Novellus首次進軍CMP,推出12吋機臺 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:新電子科技 卷期:220 民93.07 頁次:頁233.....more

10/71

以Enterprise JavaBeans發展J2EE...

國家圖書館 期刊論文 陳鴻吉 以Enterprise JavaBeans發展J2EE應用程式--Entity Bean(Container-Managed Persistence;CMP) 臺灣期刊.....more

11/71

CMP技術於金屬薄膜之反應機構

金屬薄膜 CMP 國家圖書館 19971100 期刊論文 戴寶通 蔡明蒔 CMP技術於金屬薄膜之反應機構 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:國科會國家毫微米元件實驗室通訊 卷期:4:3 民86.11.....more

12/71

Optimized Process Improvement ...

CMP Throughput 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:理工研究學報 卷期:41:1 2007.04[民96.04] 頁次:頁65-72 A08003727 .....more

13/71

訊息管家婆--整合式訊息推播服務...

整合式訊息推播服務 CMP 國家圖書館 20020400 期刊論文 林昭宏 訊息管家婆--整合式訊息推播服務 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:網路通訊雜誌 卷期:129 民91.04 頁次:頁27.....more

14/71

CMP中修整參數對拋光墊特性影響...

拋光墊 化學機械拋光 半導體製程 CMP 國家圖書館 20020900 期刊論文 左培倫 何碩洋 CMP中修整參數對拋光墊特性影響之研究 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械月刊 卷期:28:9.....more

15/71
第 1 頁
共 5 頁
下一頁