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研磨液組成及機械變數對鋁化學-...

鋁 化學機械拋光法 電化學 Aluminum Chemical mechanical polishing CMP Electrochemistry 國家圖書館 20021200 期刊論文 林義雄.....more

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化學機械研磨製程對摻氟二氧化矽...

化學機械研磨 摻氟二氧化矽 水氣吸附 Chemical mechanical polishing Fluorine-doped silicon dioxide Moisture absorption.....more

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銅金屬與低介電常數材料與製程

 Chemical mechanical polishing Spin-on glass SOG 國家圖書館 20001100 期刊論文 楊正杰 張鼎張 鄭晃忠 銅金屬與低介電常數材料與製程 臺灣期刊論文索引系統.....more

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Properties and Chemical-Mechan...

-Mechanical Polishing Characteristics of Low Dielectric Constant Polymer Films: PAE-2 and Flare 2.0 臺灣期刊論文索.....more

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於奈米氧化鋁研磨液中添加界面活...

奈米氧化鋁研磨液 界面活性劑 化學機械研磨 Chemical mechanical polishing Nano-alumina slurry Surfactant 國家圖書館 20040300 期.....more

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電解拋光技術於半導體製程上的應...

電解拋光技術 半導體製程 無應力拋光 生醫材料 Electropolishing Semiconductor process Stress free polishing Bio-material 國.....more

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CVD鑽石薄膜平坦化技術--熱化學...

polishing 國家圖書館 20040500 期刊論文 邱思齊 王興民 CVD鑽石薄膜平坦化技術--熱化學拋光法製程研究 臺灣期刊論文索引系統 來源期刊:機械工業 卷期:254 民93.05 頁次:頁.....more

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非接觸式拋光矽晶片之研究

非接觸式拋光 矽晶圓 加工間距 移除率 表面粗糙度 Non-contact polishing Si wafer Gap Material removal rate Surface.....more

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化學機械研磨中鑽石修整器磨耗之...

化學機械研磨 鑽石修整器 隆起率 Chemical mechanical polishing CMP Diamond conditioner Uphill ratio 國家圖書館 20040500.....more

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銅/鉭金屬化學--機械拋光過程中...

銅 鉭 化學-機械拋光 伽凡尼腐蝕 CMP Chemical-mechanical polishing Copper Tantalum Galvanic corrosion 國家圖書館.....more

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銅在化學-機械拋光電解液中之電...

銅 電化學行為 雙氧水 化學-機械拋光 Copper Electrochemical behavior Hydrogen peroxide Chemical-mechanical polishing.....more

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淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰

淺溝渠隔離技術 固定式砥粒研磨 化學機械研磨 高選擇比研漿 Shallow trench isolation Fixed abrasive polishing Direct CMP High.....more

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熱化學拋光CVD鑽石薄膜的製程研...

化學氣相沉積鑽石薄膜 熱化學拋光法 Chemical vapor deposition diamond films or CVDD Thermo-chemical polishing 國家圖書館.....more

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電解拋光技術於半導體製程上的應...

電解拋光技術 半導體製程 無應力拋光 生醫材料 Electropolishing Semiconductor process Stress free polishing Bio-material 國.....more

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Sol-gel Synthesis and Characte...

奈米粉末 釔摻雜氧化鋯 溶膠-凝膠法 化學機械研磨 Nanopowder Yttrium-doped zirconia Sol-gel Chemical mechanical polishing 國.....more

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