蝕刻網罩製造專利地圖分析
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A00032163
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 邱正茂 苑承剛
- 主題與關鍵字：
- 網罩 光阻塗佈 曝光 蝕刻 監視器 專利 Shadow mask Photoresist coating Exposure Etching Monitor Patent
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:168 民89.12
- 頁次:頁154-160
- 日期：
- 20001200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
