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高密度電漿源設計製作及其應用在半導體製程之發展情況
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後設資料
資料識別:
A00029898
資料類型:
期刊論文
著作者:
蔡春鴻 鄭光凱 杜家慶 吳宗學
主題與關鍵字:
半導體製程 電漿製程
描述:
來源期刊:科學發展月刊
卷期:28:11 民89.11
頁次:頁825-835
日期:
20001100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
蔡春鴻 鄭光凱 杜家慶 吳宗學(20001100)。[高密度電漿源設計製作及其應用在半導體製程之發展情況]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/4f/12.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/4f/12.html
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