室溫液相沉積技術、暨設備技術在未來半導體製程的應用與發展潛力
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- 資料識別：
- A00018403
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 葉清發 李岳川 陳添富 蕭智文 王碩晟
- 主題與關鍵字：
- 液相沈積技術 複晶矽薄膜電晶體 半導體設備 LPD TFT's Semiconductor equipment
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:210 民89.09
- 頁次:頁208-221
- 日期：
- 20000900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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