離子濺鍍法成長矽碳氮薄膜及其機械性質研究
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A01001367
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 王春田(Wang， C. T.) 馬廣仁(Ma， K. J.) 陳貴賢(Chen， K. H.) 柯琪(Chen， L. C.) 林麗瓊(Kichambare， P. D.)
- 主題與關鍵字：
- 毫微米壓痕 殘留壓應力 外加輔助的氮離子源 Nano-indentation Residual stress N atom source
- 描述：
- 來源期刊:材料科學與工程
- 卷期:33:1 民90.03
- 頁次:頁38-43
- 日期：
- 20010300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
