UNS S44400不銹鋼在不同氧分壓下之高溫氧化行爲

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A11004194
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳偉昇(Chen, W. S.) 林哲綸(Lin, C. L.) 開物(Kai, W.) 邱善得(Chyou, S. D.)
主題與關鍵字:
高溫氧化 拋線律 N型半導體 High-temperature oxidation Parabolic-rate law N-type semiconductor
描述:
來源期刊:防蝕工程
卷期:24:3 2010.09[民99.09]
頁次:頁157-164
日期:
20100900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

Teaching Doris Les...
臺灣中部蓮華池地區低海拔常綠闊葉林4...
女性荷爾蒙療法與中藥科學中藥處方併用...
Extraordinary Accu...
金木水火土
微奈米級三維全域表徵動態顯微量測