製作低溫多晶矽薄膜之非晶矽膜脫氫系統開發

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資料識別:
A10044637
資料類型:
期刊論文
著作者:
郭啟全(Kuo, Chil-chyuan) 張益三(Chang, Yi-san) 陳紀彰(Chen, Ji-zhang)
主題與關鍵字:
低溫多晶矽薄膜 非晶矽膜 脫氫系統 準分子雷射退火 Low-temperature polycrystalline silicon Amorphous silicon Dehydrogenation system Excimer laser annealing
描述:
來源期刊:建國科大理工期刊
卷期:30:1 2010.10[民99.10]
頁次:頁37-53
日期:
20101000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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