應用雙雷射光技術以提升雷射尖峰退火的製程能力

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資料識別:
A10042851
資料類型:
期刊論文
著作者:
Hebb, Jeff Wang, Yun Chen, Shaoyin Shen, Michael Zhou, Senquan Wang, Xiaoru Owen, David Shetty, Shrinivas Le, Van Fang, Emil
主題與關鍵字:
雷射尖峰退火 快速退火 接面活化 矽化鎳
描述:
來源期刊:電子月刊
卷期:16:9=182 2010.09[民99.09]
頁次:頁112-120
日期:
20100900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

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管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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