應用雙雷射光技術以提升雷射尖峰退火的製程能力
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A10042851
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- Hebb， Jeff Wang， Yun Chen， Shaoyin Shen， Michael Zhou， Senquan Wang， Xiaoru Owen， David Shetty， Shrinivas Le， Van Fang， Emil
- 主題與關鍵字：
- 雷射尖峰退火 快速退火 接面活化 矽化鎳
- 描述：
- 來源期刊:電子月刊
- 卷期:16:9=182 2010.09[民99.09]
- 頁次:頁112-120
- 日期：
- 20100900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
