陰極電弧技術沉積添加Cu、Zn元素之功能性二氧化鈦薄膜特性研究

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資料識別:
A10037456
資料類型:
期刊論文
著作者:
李鈺萍(Lee, Yu-ping) 何偉友(Ho, Wei-yu)
主題與關鍵字:
功能性薄膜 陰極電弧沉積 二氧化鈦 Functional films Cathodic arc deposition Titanium dioxide
描述:
來源期刊:明道學術論壇
卷期:6:1 2010.03[民99.03]
頁次:頁115-122
日期:
20100300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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