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陰極電弧技術沉積添加Cu、Zn元素之功能性二氧化鈦薄膜特性研究
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後設資料
資料識別:
A10037456
資料類型:
期刊論文
著作者:
李鈺萍(Lee, Yu-ping) 何偉友(Ho, Wei-yu)
主題與關鍵字:
功能性薄膜 陰極電弧沉積 二氧化鈦 Functional films Cathodic arc deposition Titanium dioxide
描述:
來源期刊:明道學術論壇
卷期:6:1 2010.03[民99.03]
頁次:頁115-122
日期:
20100300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
李鈺萍(Lee, Yu-ping) 何偉友(Ho, Wei-yu)(20100300)。[陰極電弧技術沉積添加Cu、Zn元素之功能性二氧化鈦薄膜特性研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/f7/09.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/f7/09.html
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