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銅電鍍技術(Cu Electrodeposition)應用於100-700nm導線溝渠填充
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後設資料
資料識別:
A06093468
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃文賢 侯福居 孫旭昌
主題與關鍵字:
銅電鍍 雙鑲嵌式製程 導線溝渠 引洞 HSQ
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:13:3 民95.08
頁次:頁19-26
日期:
20060800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
黃文賢 侯福居 孫旭昌(20060800)。[銅電鍍技術(Cu Electrodeposition)應用於100-700nm導線溝渠填充]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/6d/13.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/6d/13.html
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