以沉降法配合活性炭吸附處理半導體產業高濃度含砷廢水
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- 資料識別：
- A04042139
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 邱誌忠(Chiu， Chin-chung) 陳秀卿(Chen， Shiow-ching) 曾昭桓(Tzeng， Jau-hwan)
- 主題與關鍵字：
- 半導體業 含砷廢水 鈣鹽沉降 活性炭吸附 Semiconductor industry Arsenic-containing waste water Calcium precipitation Activated carbon adsorption
- 描述：
- 來源期刊:興大工程學刊
- 卷期:15:3 民93.11
- 頁次:頁197-207
- 日期：
- 20041100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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