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Concentration of Hexavalent and Trivalent Chromium in Electroplating Plants
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後設資料
資料識別:
A03047091
資料類型:
期刊論文
著作者:
郭憲文(Kuo, Hsien-wen)
主題與關鍵字:
鉻濃度 電鍍工廠 六價鉻 三價鉻 Cr concentration Electroplating plants Hexavalent chromium Trivalent chromium
描述:
來源期刊:中臺灣醫學科學雜誌
卷期:8:4 民92.12
頁次:頁199-206
日期:
20031200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
郭憲文(Kuo, Hsien-wen)(20031200)。[Concentration of Hexavalent and Trivalent Chromium in Electroplating Plants]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/85/10.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/85/10.html
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