淺談電漿蝕刻對低溫複晶矽薄膜電晶體之損傷效應

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資料識別:
A03040901
資料類型:
期刊論文
著作者:
張鈞傑 陳志強 莊景桑 葉永輝
主題與關鍵字:
低溫複晶矽薄膜電晶體 乾式蝕刻 電漿製程傷害 可靠度 Low temperature poly-silicon TFT LTPS TFT Dry etch Plasma process induced damage PPID Reliability
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:202 民92.10
頁次:頁162-173
日期:
20031000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

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管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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