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淺談電漿蝕刻對低溫複晶矽薄膜電晶體之損傷效應
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後設資料
資料識別:
A03040901
資料類型:
期刊論文
著作者:
張鈞傑 陳志強 莊景桑 葉永輝
主題與關鍵字:
低溫複晶矽薄膜電晶體 乾式蝕刻 電漿製程傷害 可靠度 Low temperature poly-silicon TFT LTPS TFT Dry etch Plasma process induced damage PPID Reliability
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:202 民92.10
頁次:頁162-173
日期:
20031000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
張鈞傑 陳志強 莊景桑 葉永輝(20031000)。[淺談電漿蝕刻對低溫複晶矽薄膜電晶體之損傷效應]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/6d/1a.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/6d/1a.html
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