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藉光子相關函數光譜學研究陰離子界面活性劑在CMC值水溶液中之粒徑、界面電位與遷移率受攪拌之影響關係(第一報)
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後設資料
資料識別:
A99005033
資料類型:
期刊論文
著作者:
楊作川(Yang, Tso-chuan) 林昌立(Lin, Chang-li)
主題與關鍵字:
光子相關函數光譜學 CMC值 臨界微胞濃度值 粒徑 界面電位 遷移率 Photon correction spectroscopy Critical micelle concentration CMC
描述:
來源期刊:黃埔學報
卷期:36 民88.01
頁次:頁309-329
日期:
19990100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
楊作川(Yang, Tso-chuan) 林昌立(Lin, Chang-li)(19990100)。[藉光子相關函數光譜學研究陰離子界面活性劑在CMC值水溶液中之粒徑、界面電位與遷移率受攪拌之影響關係(第一報)]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/60/18.html(2017/03/23瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/60/18.html
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