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Applications of Total Reflection X-ray Fluorescence to Analysis of VLSI Micro Contamination
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後設資料
資料識別:
A99038696
資料類型:
期刊論文
著作者:
劉博文(Liou, Bor Wen) 李崇仁(Lee, Chung Len)
主題與關鍵字:
全反射X-螢光表面分析儀 VLSI微污染監控 金屬污染物 TXRF
描述:
來源期刊:吳鳳學報
卷期:7 民88.06
頁次:頁149-162
日期:
19990600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
劉博文(Liou, Bor Wen) 李崇仁(Lee, Chung Len)(19990600)。[Applications of Total Reflection X-ray Fluorescence to Analysis of VLSI Micro Contamination]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/53/07.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/53/07.html
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