晶圓廠離子植入機臺維修作業化學性因子暴露研究

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A99037411
資料類型:
期刊論文
著作者:
高馨儀(Kao, Shen-ei)
主題與關鍵字:
晶圓廠 半導體產業
描述:
來源期刊:勞工研究
卷期:137 民88.10
頁次:頁45-73
日期:
19991000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

西方人本主義倫理與基督教思想
最高行政法院九十年度裁字第七九六號裁...
中藥材中黃麴毒素污染之調查
試介李勤岸、胡民祥、莊柏林、路寒袖、...
基因、主體與後人文社會規範
咽喉異物感的探討