XRD Analysis of PZT Thin Films on Si Substrates by Rapid Thermal Annealing Processes
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- 資料識別：
- A99034670
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張忠誠(Chang， C. C.) 黃嘉宏(Hwang， C. H.)
- 主題與關鍵字：
- PZT Thin film X-ray diffraction Full width & half maximum Si substrate Annealing 鋯鈦酸鉛薄膜 X光繞射 半高寬 矽基板 退火
- 描述：
- 來源期刊:材料科學
- 卷期:31:4 民88.12
- 頁次:頁220-225
- 日期：
- 19991200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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