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銅/矽及銅/矽鍺系統界面反應及室溫氧化之研究
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資料識別:
A99034668
資料類型:
期刊論文
著作者:
羅建興(Luo, J. S.) 林文臺(Lin, W. T.) 張俊彥(Chang, C. Y.) 施博盛(Shin, P. S.)
主題與關鍵字:
聚集現象 室溫氧化 Cu[feb0] (Si[fec5] Ge戓) Agglomeration Room temperature oxidation
描述:
來源期刊:材料科學
卷期:31:4 民88.12
頁次:頁211-215
日期:
19991200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
羅建興(Luo, J. S.) 林文臺(Lin, W. T.) 張俊彥(Chang, C. Y.) 施博盛(Shin, P. S.)(19991200)。[銅/矽及銅/矽鍺系統界面反應及室溫氧化之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/43/51.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/43/51.html
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