Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Poly(silsesquioxane): HSQ
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- 資料識別：
- A99032106
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- Chen，Wen-chang Yen，Cheng-tyng
- 主題與關鍵字：
- CMP HSQ Slurry Surface modification
- 描述：
- 來源期刊:Journal of Polymer Research
- 卷期:6:3 民88.07
- 頁次:頁197-202
- 日期：
- 19990700
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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