Effect of a Deprotection Group on Acrylic Photoresist
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- 資料識別：
- A99031662
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- Fu，S. C. Hsieh，K. H. Wang，L. A.
- 主題與關鍵字：
- t-Amyl methacrylate t-Amyl cholate Lithography CAMP
- 描述：
- 來源期刊:Journal of Polymer Research
- 卷期:6:2 民88.04
- 頁次:頁99-105
- 日期：
- 19990400
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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