應用霍式紅外光譜法調查半導體廠製程危害性氣體

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A99029857
資料類型:
期刊論文
著作者:
葉銘鵬(Yeh, Ming-peng) 吳榮泰(Wu, Rong-tai) 余榮彬(Yu, Jung-pin)
主題與關鍵字:
霍氏紅外光譜儀 半導體廠 氣體分析 TIR Semiconductor Gas analysis
描述:
來源期刊:勞工安全衛生研究季刊
卷期:7:4 民88.12
頁次:頁389-400
日期:
19991200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

最高行政法院九十年度裁字第七九六號裁...
鄭和時代印度洋情勢與中國的關係
應用綠色螢光蛋白報導基因探討蝴蝶蘭癒...
三相混合式發電系統變頻器之研製
中藥材中黃麴毒素污染之調查
酸性離子液體觸媒在煉油及石化工業之應...