低介電常數聚亞醯胺膜之化學機械研磨特性研究
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A99029549
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蔡明蒔 戴寶通
- 主題與關鍵字：
- 低介電常數 聚亞醯胺膜 化學機械研磨 Polyimide Chemical-mechanical polishing CMP
- 描述：
- 來源期刊:國科會國家毫微米元件實驗室通訊
- 卷期:6:4 民88.11
- 頁次:頁6-11
- 日期：
- 19991100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
