晶片CMP製程之機械磨耗機制研究與實驗探討
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- 資料識別：
- A99029496
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蔡明義
- 主題與關鍵字：
- 化學機械平坦化 機械磨耗機制 移除率 不均勻性
- 描述：
- 來源期刊:勤益學報
- 卷期:17 民88.11
- 頁次:頁1-12
- 日期：
- 19991100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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