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Effects of N-Type Shallow Implantation Depletion Layer Width on the Breakdown Voltage of a Schottky Barrier Diode Fabricated on P-Type Substrate
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後設資料
資料識別:
A99028593
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃亞麒(Huang, Ya-chi) 李連城(Li, Lien-cheng)
主題與關鍵字:
離子佈植 蕭基能障二極體 崩潰電壓
描述:
來源期刊:黃埔學報
卷期:38 民88.12
頁次:頁317-334
日期:
19991200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
黃亞麒(Huang, Ya-chi) 李連城(Li, Lien-cheng)(19991200)。[Effects of N-Type Shallow Implantation Depletion Layer Width on the Breakdown Voltage of a Schottky Barrier Diode Fabricated on P-Type Substrate]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/27/f2.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/27/f2.html
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