以化學氣相沈積法成長半導體薄膜
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- 資料識別：
- A99025508
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 洪昭南 郭有斌
- 主題與關鍵字：
- 化學氣相沈積法 半導體薄膜 CVD
- 描述：
- 來源期刊:化工技術
- 卷期:7:12=81 民88.12
- 頁次:頁190-204
- 日期：
- 19991200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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