深次微米製程先進蝕刻清洗分析
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- 資料識別：
- A99022595
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 葉清發 李岳川
- 主題與關鍵字：
- 濕式清洗 晶片清洗 單片式旋轉蝕刻清洗設備 Wet cleaning Wafer cleaning Single-wafer spin cleaner
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:198 民88.09
- 頁次:頁188-198
- 日期：
- 19990900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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