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矽晶片研磨損傷及磊晶層之研究
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資料識別:
A99022567
資料類型:
期刊論文
著作者:
朱俊俍 謝明雄 歐陽浩 蔡哲正 林宏彝
主題與關鍵字:
磊晶成長 殘留應力 矽晶片 Epitaxial growth Residual stresses Silicon wafer
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:197 民88.08
頁次:頁154-161
日期:
19990800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
朱俊俍 謝明雄 歐陽浩 蔡哲正 林宏彝(19990800)。[矽晶片研磨損傷及磊晶層之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/10/71.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/64/10/71.html
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