Evaluation of Lithographic Performance of Chemically Amplified Deep-UV Resist
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- 資料識別：
- A99020986
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 劉宗宏(Liou， Tzong-horng)
- 主題與關鍵字：
- 製程評估 深紫外光阻劑 微影 Process evaluation Deep-UV resist Lithography
- 描述：
- 來源期刊:樹德學報
- 卷期:24 民88.08
- 頁次:頁69-80
- 日期：
- 19990800
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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