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Pore Structure Modification by Chemical Vapor Deposition in Inorganic Membrane-Numerical Analysis
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資料識別:
A99018381
資料類型:
期刊論文
著作者:
李良倫(Lee, Lang-luen) 洪隆章(Hong, Lung-chang) 洪儒生(Hong, Lu-sheng) 蔡大翔(Tsai, Dah-shyang)
主題與關鍵字:
Pore structure Chemical vapor deposition Kinetics Pore size distribution 化學氣相沉積 修飾無機多孔膜 孔洞構造 數值分析
描述:
來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
卷期:30:2 民88.03
頁次:頁105-115
日期:
19990300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
李良倫(Lee, Lang-luen) 洪隆章(Hong, Lung-chang) 洪儒生(Hong, Lu-sheng) 蔡大翔(Tsai, Dah-shyang)(19990300)。[Pore Structure Modification by Chemical Vapor Deposition in Inorganic Membrane-Numerical Analysis]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/63/fc/2e.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/63/fc/2e.html
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