半導體晶圓表面清洗技術發展

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資料識別:
A99012083
資料類型:
期刊論文
著作者:
簡弘民(Chein, Hung Min) 盧信忠(Lu, Hsin-chung) 黃尊祐(Huang, Tsun-yu) 蔡春進(Tsai, Chuen-jinn)
主題與關鍵字:
導體製造業 濕式化學清洗法 乾式清洗法 Semiconductor manufacturing Wet-chemical cleaning method Dry particle-cleaning technology
描述:
來源期刊:勞工安全衛生研究季刊
卷期:7:2 民88.06
頁次:頁209-229
日期:
19990600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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