Preparation and Analysis of Silicon Negative Differential Resistance Diodes with Porous Superlattice Structure

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A98005861
資料類型:
期刊論文
著作者:
王水進(Wang, Shui-jinn) 蔡豪益(Tsai, Hao-yi) 林鴻仁(Lin, Hung-jen)
主題與關鍵字:
Porous silicon Superlattice Negative differential resistance Anodization Peak-to-valley current ratio Resonant tunneling 多孔矽超晶格結構 負微分電阻特性
描述:
來源期刊:Proceedings of the National Science Council. Part A, Physical Science and Engineering
卷期:22:2 民87.03
頁次:頁235-242
日期:
19980300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

人工合成腐植酸對人類臍帶靜脈血管內皮...
倫敦國家畫廊西歐繪畫的研究
在全球化與地化的交錯之中:白先勇、李...
三合一行動盤點系統之研發
UVB輻射誘發老鼠角質層細胞株氧化壓...
臺港華語電影類型的發展及其意義