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Ultra Shallow P狇-n Junctions for VLSI Devices by Incorporating N[feaf]狇Implantation
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後設資料
資料識別:
A98033470
資料類型:
期刊論文
著作者:
楊文祿(Yang, Wen-luh) 劉堂傑(Liu, Don-gey) 李仕弘(Lee, Shih-hung) 陳朝祺(Chen, Chao-chi) 趙天生(Chao, Tien-sheng) 雷添福(Lei, Tan-fu)
主題與關鍵字:
超淺接面 固態擴散源 複晶矽 Ultra shallow junction Solid diffusion source Polysilicon
描述:
來源期刊:逢甲學報
卷期:34 民87.12
頁次:頁93-103
日期:
19981200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
楊文祿(Yang, Wen-luh) 劉堂傑(Liu, Don-gey) 李仕弘(Lee, Shih-hung) 陳朝祺(Chen, Chao-chi) 趙天生(Chao, Tien-sheng) 雷添福(Lei, Tan-fu)(19981200)。[Ultra Shallow P狇-n Junctions for VLSI Devices by Incorporating N[feaf]狇Implantation]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/63/9e/e2.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/63/9e/e2.html
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