Direct Simulation Monte Carlo of Monosilane Low Pressure Chemical Vapor Deposition

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資料識別:
A98029159
資料類型:
期刊論文
著作者:
徐啟中(Hsu, Chi-chung) 李良倫(Lee, Lang-luen) 蔡大翔(Tsai, Dah-shyang)
主題與關鍵字:
Silane CVD High silane Silylene Molecular simulation DSMC 蒙地卡羅分子模擬法 矽甲烷 低壓 化學氣相沉積
描述:
來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
卷期:29:6 民87.11
頁次:頁427-435
日期:
19981100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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