An Accurate Determination of P狇Silicon Layer Thickness for Microstructures
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- 資料識別：
- A98016195
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張國明(Chang， Kow-ming) 黃國貞(Hwang， Gwo-jen) 謝友嵐(Hsien， Yeou-lang) 陳建宏(Chen， Chien-hung)
- 主題與關鍵字：
- 高濃度摻硼薄膜 抗蝕刻層 硼氮源擴散 Heavily boron-doped layer Etch-stop layer BN diffusion
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
- 卷期:5:2 民87.05
- 頁次:頁107-111
- 日期：
- 19980500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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