Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching
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- 資料識別：
- A98014200
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 林鴻志(Lin， Horng-chih) 王夢凡(Wang， Meng-fan) 簡昭欣(Chien， Chao-hsin) 黃調元(Huang， Tiao-yuan) 張俊彥(Chang， Chun-yuan)
- 主題與關鍵字：
- Plasma Metal-oxide-semiconductor transistor MOS transistor Antenna effet 金屬蝕刻 電漿 充電損害效應
- 描述：
- 來源期刊:Proceedings of the National Science Council. Part A， Physical Science and Engineering
- 卷期:22:3 民87.05
- 頁次:頁416-424
- 日期：
- 19980500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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