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以化學氣相沈積成長金屬碳化物及金屬氮化物薄膜
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後設資料
資料識別:
A98011625
資料類型:
期刊論文
著作者:
裘性天(Chiu, Hsin-tien)
主題與關鍵字:
化學氣相沈積 金屬碳化物 金屬氮化物 單源前驅物 Chemical vapor deposition CVD Metal carbide Metal nitride Single-source precursor
描述:
來源期刊:化學
卷期:56:2 民87.06
頁次:頁121-124
日期:
19980600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
裘性天(Chiu, Hsin-tien)(19980600)。[以化學氣相沈積成長金屬碳化物及金屬氮化物薄膜]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/63/43/3b.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/63/43/3b.html
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