A Low Temperature Improved Formation of Silicon Dioxide Films in Liquid Phase Deposition

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A97034488
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃建榮(Huang, C. J.) 鄧文榮(Deng, Win-rong)
主題與關鍵字:
Liquid phase deposition Deposition rate Silicon dioxide film Formation 液相沉積法 低溫 二氧化矽膜
描述:
來源期刊:和春學報
卷期:4 民86.07
頁次:頁19-24
日期:
19970700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

挪威對於養殖魚類之安全、衛生及基改飼...
「幽靈」與「朋友」:論晚期解構主義的...
明清以來學者補《元史藝文志》成果述考
豬博德氏菌、巴氏桿菌、放線桿菌、大腸...
現代中國畫的傳統與變革
硼含量對AlCoCrFe₂NiMo□...