In-Situ Micro Strain Gauges for Measuring Residual Strain of Three CMOS Thin Using Only One Maskless Post-Processing Step
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A97024089
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 戴慶良(Dai， Ching-liang) 張培仁(Chang， Pei-zen)
- 主題與關鍵字：
- CMOS Thin film Residual strains 互補式金氧半導體 薄膜 殘留應變
- 描述：
- 來源期刊:中國工程學刊
- 卷期:20:5 民86.09
- 頁次:頁539-548
- 日期：
- 19970900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
