An Observation of Oxygen Precipitation Retardation Phenomenon Induced by 450。C Anneal in Czochralski Silicon

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資料識別:
A97015536
資料類型:
期刊論文
著作者:
貢中元(Kung, C. Y.) 徐瑋(Hsu, W.) 劉進明(Liu, J. M.)
主題與關鍵字:
氧凝聚遲滯 氧凝聚物 二溫階退火 三溫階退火 微觀結構 Oxygen precipitate Precipitation retardation Rod-like defect Three-step anneal Two-step anneal Silicon
描述:
來源期刊:興大工程學報
卷期:8:2 民86.06
頁次:頁21-29
日期:
19970600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

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管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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