The Correlation between the Characteristicsofa-Si:Hthin-Film Transistorand Physicalproperties of a-Sin戓:Hgatelayer withn[feaf]O-Plasmatreatment
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- 資料識別：
- A97015419
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳盈安(Chen， Yen-ann) 林全益(Lin， Chain-ye) 蔡文欽(Tsay， Wen-chin) 賴利弘(Laih， Li-hong) 簡廷憲(Jen， Tean-sen) 洪志旺(Hong， Jyh-wong)
- 主題與關鍵字：
- 薄膜電晶體 折射係數 機械應力 電漿處理 Thin-film transistor Refractive index Tensile mechanism stress N[feaf]O-plasma treatment
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
- 卷期:4:2 民86.05
- 頁次:頁89-96
- 日期：
- 19970500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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