一種可實際應用半導體化學機械研磨之奈米級二氧化鈰粉末新製程技術
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- 資料識別：
- A00007515
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 施文塵 劉如熹 黎源欣 邱建華 蔡明蒔
- 主題與關鍵字：
- 化學機械研磨 二氧化鈰 聚亞芳香醚 奈米級超微細粉末 Chemical mechanical polishing CMP
- 描述：
- 來源期刊:陶業
- 卷期:19:1 民89.01
- 頁次:頁22-27
- 日期：
- 20000100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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