Effects of Oxygen in Reactive Ion-assisted Bipolar DC Mmagnetron Sputtering of Ta[feaf]O邚and SiO[feaf]Films
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- 資料識別：
- A00007391
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- Tsai，Rung-ywan Chu，C. W. Chen，T. S. Chang，C. S. Hung，Jung-chung
- 主題與關鍵字：
- 反應式離子助鍍雙極直流磁控濺鍍法 Ta[feaf]O邚薄膜 SiO[feaf]薄膜 氧流量 膜材
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:13:1 民89.03
- 頁次:頁25-32
- 日期：
- 20000300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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