半導體微影製程中阻劑修飾對製程的影響
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- 資料識別：
- A00039143
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 盧永坤
- 主題與關鍵字：
- 阻劑修飾 紫外線吸收光譜分析 可見光吸收光譜分析 開放式微波消化 重量分析法 感應耦合電漿質譜分析 熱穩定性 蝕刻抗蝕刻性 Photoresist modification UV VIS Ultra-violet Visible absorption spectrometry Visible absorption spectrometry Open-focused microwave digestion Gravimetric method ICP-MS Inductively coupled plasma-mass spectrometry Thermal stability Etching resistance
- 描述：
- 來源期刊:華夏學報
- 卷期:35 民89.12
- 頁次:頁15113-15140
- 日期：
- 20001200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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