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高密度感應耦合電漿設備之電漿特性與其蝕刻機制研究
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資料識別:
A00037107
資料類型:
期刊論文
著作者:
蘇天佑(Su, W.) 徐享楨(Hsu, D.) 林維倫(Lin, W. L.) 廖芳慶(Liao, F. C.) 劉彥泓(Liu, Y. H.) 武東星(Wuu, D. S.)
主題與關鍵字:
感應耦合電漿設備 電漿製程 蝕刻 積體電路元件 ICP
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:13:4 民89.11
頁次:頁25-31
日期:
20001100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
蘇天佑(Su, W.) 徐享楨(Hsu, D.) 林維倫(Lin, W. L.) 廖芳慶(Liao, F. C.) 劉彥泓(Liu, Y. H.) 武東星(Wuu, D. S.)(20001100)。[高密度感應耦合電漿設備之電漿特性與其蝕刻機制研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/6d/19.html(2024/09/13瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/62/6d/19.html
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